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產品簡介
KT-Z1650PVD是一款小型新款磁控濺射儀小型臺式濺射功率可控磁控濺射儀，儀器雖小功能齊全，配備有電壓 電流反饋,樣品臺旋轉，樣品高度調節(jié)，及電動擋板功能。通過定時調節(jié)預濺射功率及薄膜沉積功率，可對大部分金屬進行均勻物理沉積，真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染，樣品臺可旋轉以獲得更均勻的薄膜，可制備各種金屬薄膜。
| 品牌 | 鄭科探 | 價格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 產地類別 | 國產 | 應用領域 | 電子 |
KT-Z1650PVD是一款小型新款磁控濺射儀小型臺式濺射功率可控磁控濺射儀，儀器雖小功能齊全，配備有電壓 電流反饋,樣品臺旋轉，樣品高度調節(jié)，及電動擋板功能。通過定時調節(jié)預濺射功率及薄膜沉積功率，可對大部分金屬進行均勻物理沉積，真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染，樣品臺可旋轉以獲得更均勻的薄膜，可制備各種金屬薄膜。
針對市場上其它型號我們做如下改進
1 腔體擴充口可增加擴展口 大可擴展KF40接口方便連接分子泵 或 晶控傳感器
2 樣品可旋轉 大轉速20轉每分鐘 使鍍膜樣品更均勻
3 輕旋轉機械手柄 樣品高度可精細調節(jié) 樣品距離靶材距離可到1mm
4 電動擋板 使用人機界面程序控制打開或者關閉時間
5 可通過人機界面手動或者使用編程自動控制預濺射（洗靶） 恒定功率輸出 變換功率輸出 定時打開擋板（時間單位 秒）關閉擋板 樣品轉速 工藝可存儲 工藝名稱可改 利如 噴金20納米厚
6 腔體上蓋鉸鏈安裝 更換靶材方便操作
7 此產品已申請多項技術 抄襲請慎重！??！
小型新款磁控濺射儀技術參數(shù)：
控制方式 | 7寸人機界面 手動 自動模式切換控制 |
濺射電源 | 直流濺射電源 |
鍍膜功能 | 0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序 |
大功率 | ≤1000W |
大輸出電壓電流 | 電壓≤1000V 電流≤1A |
極限真空 | 機械泵 ≤5Pa（5分鐘） 分子泵≤5*10^-3Pa |
濺射真空 | ≤30Pa |
擋板類型 | 電控 |
真空腔室 | 石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm |
樣品臺 | 可旋轉φ62 （大可安裝φ50基底） |
樣品臺轉速 | 8轉/分鐘 |
樣品濺射源調節(jié)距離 | 40-105mm |
真空測量 | 皮拉尼真空計（已安裝 測量范圍10E5Pa 1E-1Pa） |
預留真空接口 | KF25抽氣口 KF16放氣口 6mm卡套進氣口 |
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